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產(chǎn)品詳情 PRODUCT

SAL-3000Plus ALD原子層沉積系統(tǒng)
分類 AGUS ALD-原子層沉積系統(tǒng)
型號 SAL-3000Plus
品牌 AGUS
產(chǎn)地 日本，進(jìn)口

產(chǎn)品簡介

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SAL-3000Plus ALD原子層沉積系統(tǒng)

 

        SAL3000Plus是一款可拓展型的ALD原子層沉積系統(tǒng)，可通過連接STR2000轉(zhuǎn)移單元，與退火設(shè)備SAN2000Plus，鍍膜設(shè)備，SVE2000Plus蒸鍍設(shè)備，SSP2000Plus/SSP3000Plus磁控濺射設(shè)備搭配；

SAL3000pLUS.pngSAL-3000pus+轉(zhuǎn)移倉.png

              SAL-3000Plus                                  SAL3000-Plus+STR2000+SAN2000Plus

性能及特點(diǎn)：

1.鍍膜質(zhì)量高

 ALD技術(shù)對比.gif

    · 膜厚均勻性≤3% @ 100mm

    · 對于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性；

    · 膜厚可準(zhǔn)確控制達(dá)一個(gè)原子層；

    · 大面積制程可達(dá)到無孔洞薄膜（Pin Hole free）

    · 極高的重復(fù)性及穩(wěn)定性

    · 材料缺陷密度低

    · 可成長非晶型或結(jié)晶薄膜（選擇溫度）

2.兩種成膜方向可選

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· 可選擇將薄膜沉積在基底上表面和基底下表面，薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風(fēng)險(xiǎn)。

3. 可通過STR2000與其它Plus系列設(shè)備串聯(lián)

4.最多可搭載6路前驅(qū)體

5.優(yōu)異的真空性能：真空度≤5Pa

6.圖形用戶界面，觸控操作，簡單易用，可存儲30多種鍍膜方案

7.與SAL3000相比，寬度減少了40％

6. 可搭配多種配件：
干式真空泵，臭氧發(fā)生器，尾氣處理裝置，800℃基底加熱器，200℃前驅(qū)體加熱器等，退火設(shè)備等；

 

 

SAL3000pLUS配件.gif

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