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SAL-1000 ALD原子層沉積系統(tǒng)

SAL-1000Series是由日本AGUS生產(chǎn)的桌面型ALD原子層沉積設(shè)備，可搭載2路前驅(qū)體。適用于4英寸（φ 100mm）基片的沉積，并可搭載粉末樣品架和手套箱。

SAL-1000Sseries原子層沉積設(shè)備具備如下特點(diǎn)：

1. 良好的成膜性能，膜厚均勻性高，≤3%

·對(duì)于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性；

· 膜厚可精準(zhǔn)控制達(dá)一個(gè)原子層；

· 大面積制程可達(dá)到無(wú)孔洞薄膜（Pin Hole free）

· 極高的重復(fù)性及穩(wěn)定性

· 材料缺陷密度低

· 可成長(zhǎng)非晶型或結(jié)晶薄膜（選擇溫度）

2. 優(yōu)異的真空性能，真空度≤5Pa

3. 觸控操作，簡(jiǎn)單易用；

·觸摸屏使用戶可以輕松設(shè)置配方或沉積過(guò)程，并檢查每個(gè)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)。

·可進(jìn)行自動(dòng)沉積，并在沉積完成后自動(dòng)完成N₂排放。
·手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動(dòng)完成。

4. 配件豐富，可滿足多種試驗(yàn)需求：

基底旋轉(zhuǎn)架、粉末樣品配件、手套箱、臭氧發(fā)生器、尾氣處理設(shè)備、200℃前驅(qū)體的加熱器，干式真空泵等；

ALD粉末樣品支架說(shuō)明.gif

粉末沉積配件：傾斜框架可調(diào)整的角度為0 ~ 45°，更便于粉末成膜。單次可對(duì)5cm³的粉體進(jìn)行表面沉積；

SAL-1000配件.gif

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