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產(chǎn)品詳情 PRODUCT

RTP-6經(jīng)濟型快速退火爐
分類 Advance Riko 紅外金面反射爐
型號 RTP-6
品牌 Advance Riko
產(chǎn)地 日本

產(chǎn)品簡介

 

 

RTP-6經(jīng)濟型快速退火爐

 

RTP-6升溫速率可達80℃/s。

RTP-6采用拋物線形的黃金反射面，可均勻熱處理6英寸的圓晶。該系統(tǒng)可進行快速的熱處理，適合熱處理工藝的研究與開發(fā)？捎糜诎雽w工藝中硅化物的形成以及半導體化合物的過程退火。

 

應用：

        1.   離子注入后的活化退火

        2.   沉積氧化膜的退火

        3.   歐姆電極合金化

        4.   PZT，SBT和其它鐵電薄膜的結(jié)晶退火

        5.   硅化物及自對準硅化物的生成

        6.   發(fā)光元件，半導體激光基板的熱處理

        7.   超淺結(jié)的生成

        8.   鐵電電容器沉積

        9.   柵氧化膜的生成

 

      特點：
  • 快速熱處理
  • 腔體采用水冷，可進行快速降溫
  • 真空置換氣氛后，可采用流動氣氛進行熱處理
  • 溫度程序設置和外部信號輸入可以通過腦輕松控制
  • 加熱過程的溫度數(shù)據(jù)也可以顯示在電腦上
  • 石英保護板（可選）可以安裝在腔室內(nèi)以防止污染
  • 配備了各種安全措施
  • 九個獨立的加熱區(qū)可實現(xiàn)不同尺寸樣品均勻的溫度控制

 

 

組成：

        1.        紅外金面反射爐

        2.        加熱腔

        3.        可編程溫控器

        4.        9個獨立的加熱區(qū)

        5.        跨度變換單元

        6.        氣體管路系統(tǒng)

        7.        熱氣排出系統(tǒng)

        8.        爐體框架，開關(guān)板

        9.        高溫計（可選）

        10.     水冷機（可選）

        11.     真空泵（可選）

  

 

 

參數(shù)：

 

 

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